一种高光件制造方法与流程

[0001]本发明涉及汽车制造领域，尤其涉及一种高光件制造方法。背景技术：[0002]现有的高光件表面处理工艺，主要有以下几个关键条件:1）专用的高光模具型腔面需要整体抛光到100000#钻石膏，并作镀层硬化处理，提高高光面使用寿命，由于钢材硬度和抛光度要求高，模具制造成本高、周期长；2）精密的高光件注塑设备，由于整个生产过程要不停的升温和降温，因此注塑机的锁模机构必须具有良好的刚性和强度，以确保锁模力的准确与稳定，同时由于注塑原材料硬度较高熔融指数低，螺杆的塑化要好以确保注塑填充质量，设备投入成本高；3）严苛的注塑条件与专用辅助设备高光件表层不仅需要光亮的外观还需要一定的硬度，因此注塑时必须配备“急冷急热”设备，一般是电热或蒸汽模温机，快速实现一个升降温循环(20℃~120℃)，辅助设备价格高且急剧的冷热交变会影响模具的使用寿命；4）独立封闭式的无尘化环境为降低高温高压生产的安全隐患，保证高光件的表面整洁，一般需要建立一个相对独立封闭的环境，场地的利用率较低；现有的高光件表面处理工艺成本高、周期长，而且生产出的高光件产品由于外观面均是高光镜面，轻微划痕和油污也会明显放大，整体硬度受限于原材料，耐刮擦性能较差，通常需要补喷清漆，产品整体表现为全镜面状态，无法增加额外的设计元素，显得单调。技术实现要素：[0003]为了解决现有技术中的问题，本发明提供了一种加工工艺更简单成本更低的高光件制造方法。[0004]本发明提供了一种高光件制造方法，包括以下步骤：步骤s1：模具制造，模具使用硬度大于hrc44的钢材，将模具型腔表面整体抛光到大于10000#钻石膏；步骤s2：图案雕刻，利用激光雕刻机在所述模具型腔上雕刻出预设纹理图案，其中，激光加工的进给量在1微米/层，光点间距小于1微米；步骤s3：注塑生产，使用pc+abs或pmma+asa材料通过注塑机进行注塑，其中，型腔模温大于80摄氏度。[0005]作为本发明的进一步改进，所述步骤s2中，在进行图案雕刻前对模具3d模型做逆向扫描，将3d模型与实物进行对比修正，皮纹面继续颜色标识。[0006]作为本发明的进一步改进，所述步骤s1中，所述模具使用硬度大于hrc48的钢材。[0007]作为本发明的进一步改进，所述步骤s3中，所述型腔模温大于120摄氏度。[0008]本发明的有益效果是：该高光件制造方法的制造成本更低，制造周期更短，制造更简单，生产效果高，稳定性也更好，而且生产出来的产品外观效果也更好。附图说明[0009]图1是本发明一种高光件制造方法的流程图。具体实施方式[0010]如图1所示，本发明公开了一种高光件制造方法。[0011]本发明提供了一种高光件制造方法，包括以下步骤：步骤s1：模具制造，模具使用硬度大于hrc44 （洛氏硬度为44）的钢材，将模具型腔表面整体抛光到大于10000#钻石膏；步骤s2：图案雕刻，利用激光雕刻机在所述模具型腔上雕刻出预设纹理图案，其中，激光加工的进给量在1微米/层，光点间距小于1微米；步骤s3：注塑生产，使用pc+abs或pmma+asa材料通过注塑机进行注塑，其中，型腔模温大于80摄氏度。[0012]在模具型腔表面雕刻纹理图案使其雕刻图案的位置亮度比没有雕刻图案的位置亮度要低，这样通过明暗对比能够增加高光件的高亮位置的亮度视觉效果，这样就可以降低模具型腔内的抛光要求，缩短了模具加工周期，而且高光件的表面被分割成亮度较高的高光区及亮度较低的图案区，这样对镜面都要求降低，不需要“急冷急热”，不需要额外配置ꢀ“急冷急热”设备，减少设备的投入成本，并且不需要“急冷急热”，提高了生产效率，且模具寿命得到了提高，不需要频繁的保养，提高了生产稳定性。由于对镜面要求降低，其不需要严苛的封闭无尘注塑环境，场地利用率大大提高，还有，可以在高光面上额外增加设计元素，丰富了产品层次，提高了产品辨识度，由于设置了激光雕刻的纹理图案，其纹理图案处会略高于高光面，能够较好的保护了高光区域，不易沾染指纹，激光纹理图案耐刮擦性好，不需要喷漆后处理，降低了零件成本和内饰voc(挥发性有机化合物)，更环保。[0013]本技术方案中，所述步骤s2中，在进行图案雕刻前对模具3d模型做逆向扫描，将3d模型与实物进行对比修正，皮纹面继续颜色标识，保证加工精度。[0014]本技术方案中，所述步骤s1中，所述模具使用硬度大于hrc48的钢材，提高模具表面硬度，不再需要做单独的镀层处理，降低了成本，减少了加工工序。[0015]本技术方案中，所述步骤s3中，所述型腔模温大于120摄氏度，提高注塑效果。[0016]该高光件制造方法的制造成本更低，制造周期更短，制造更简单，生产效果高，稳定性也更好，而且生产出来的产品外观效果也更好。[0017]以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。