一种纳米石质文物防护剂的原料存储装置的制作方法

[0001]本实用新型涉及存储装置技术领域，具体为一种纳米石质文物防护剂的原料存储装置。背景技术：[0002]石质文物是指一切以天然石头为原料加工的制品类文物，基本分为三大类：石质艺术品类文物(我国已有敦煌莫高窟、山西大同的云冈石窟、河南洛阳的龙门石窟、重庆的大足石刻等被列入世界文化遗产名录)、石质建筑类文物、石质工具和用具类文物。由于长期受到雨雪、潮气、地下水和可溶盐的侵蚀，露天保存的石质文物和石质建筑风化严重，不少处于濒危状态。对这些文物进行的修复和保护，需采用许多的技术手段和物质材料。但随着对石质文物保护研究的不断深入，发现高分子文物材料与文物本体相容性差，会堵塞文物空隙，阻碍水气的正常运移，甚至产生保护性破坏，随着科学技术的发展和进步，文物的保护材料已经从普通的有机高分子材料和无机材料制成的防护剂发展到了添加有纳米级材料的防护剂，纳米石质文物防护剂经过试验验证，其保护效果无论是在吸水率、透气性、耐酸性还是耐老化性上的表现，均大大优于普通的有机高分子材料和无机材料，但是相应的，其制备过程也更加的复杂，并且制备的成本也比普通的有机高分子材料和无机材料要高，尤其是其原料的价值十分的巨大。而在制备过程中纳米石质文物防护剂的原料常常会因为需要而进行搬运，在工作场地有可能因为工作人员失误打翻而造成倾撒从而造成浪费，而且纳米材料的尺寸非常小，在存储中需要更好的密封性，因此需要一种专用的纳米石质文物防护剂的原料存储装置。技术实现要素：[0003](一)解决的技术问题[0004]针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种纳米石质文物防护剂的原料存储装置，解决了上述背景技术中提出的问题。[0005](二)技术方案[0006]为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种纳米石质文物防护剂的原料存储装置，包括存储装置推板，所述存储装置推板的下表面固定连接有放置底座，所述放置底座的内表面固定连接有可升降移动机构，所述存储装置推板的上表面固定连接有存储箱，所述存储箱的正面设有原料观察窗，所述存储箱的背面设有通风口，所述通风口内设有防尘机构，所述存储箱的侧壁内部设有溶液槽，所述存储箱的一侧的顶部固定连接溶液添加管，所述存储箱的另一侧的底部固定连接有溶液排出管，所述溶液添加管和溶液排出管上均固定安装有控制阀门，所述存储箱的侧面设有溶液观察窗，所述存储箱的顶部通过螺纹连接有密封盖，所述存储箱内表面的侧壁上固定连接有干燥剂放置盒，所述存储装置推板上表面的一侧固定连接有推拉杆。[0007]可选的，所述放置底座的数量为四个，四个所述放置底座呈矩形分布在存储装置推板的下表面。[0008]可选的，所述可升降移动机构包括电动推杆，所述电动推杆固定安装在放置底座内表面的顶部，所述电动推杆的伸缩端固定连接有滚轮架，所述滚轮架的底部通过转轴连接有移动滚轮。[0009]可选的，所述防尘机构包括防溢散隔离网，所述防溢散隔离网的一侧固定连接有水分吸收网，所述水分吸收网的另一侧固定连接有防尘过滤网，所述水分吸收网的材质为吸水棉，所述防尘过滤网的为玻纤滤纸。[0010]可选的，所述密封盖的内表面的顶部固定连接有密封垫圈，所述密封垫圈的材质为橡胶。[0011]可选的，所述存储箱的顶部设有取料口，所述取料口的外表面设有螺纹，所述取料口外表面的螺纹与密封盖内表面的螺纹相适配。[0012]可选的，所述干燥剂放置盒的数量为两个，两个所述干燥剂放置盒对称分布在存储箱内表面的侧壁上，两个所述干燥剂放置盒内设有干燥剂。[0013](三)有益效果[0014]本实用新型提供了一种纳米石质文物防护剂的原料存储装置，具备以下有益效果：[0015]1、该纳米石质文物防护剂的原料存储装置，放置底座和可升降移动机构的配合设置，在需要搬运原料时能够通过移动滚轮来轻松方便的对存储装置进行转移搬运，达到了使原料移转更加轻松快速、便捷稳定的目的，在需要对原料进行静置存放时，能够将可升降移动机构收入到放置底座内，防止在放置过程中存储装置产生滑动，达到了原料防止保存更加稳定安全的目的。[0016]2、该纳米石质文物防护剂的原料存储装置，通过原料观察窗的设置，可在不打开密封盖的前提下对存储箱内的原料剩余量进行观察，从而避免了频繁打开密封盖导致原料与空气直接接触从而进入杂质，通过溶液槽的设置可向其中添加高比热容液体如盐水等，从而保持存储箱内部处于恒温状态，达到了避免原料因温度变化发生变质。附图说明[0017]图1为本实用新型整体结构示意图；[0018]图2为本实用新型存储箱正视剖视的结构示意图；[0019]图3为本实用新型存储箱侧视剖视的结构示意图；[0020]图4为本实用新型放置底座侧视剖视的结构示意图。[0021]图中：1、存储装置推板；2、放置底座；3、可升降移动机构；301、电动推杆；302、滚轮架；303、移动滚轮；4、存储箱；5、原料观察窗；6、通风口；7、防尘机构；701、防溢散隔离网；702、水分吸收网；703、防尘过滤网；8、溶液槽；9、溶液添加管；10、溶液排出管；11、密封盖；12、干燥剂放置盒；13、推拉杆；14、溶液观察窗；15、取料口；16、密封垫圈；17、控制阀门。具体实施方式[0022]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。[0023]请参阅图1至图4，本实用新型提供一种技术方案：一种纳米石质文物防护剂的原料存储装置，包括存储装置推板1，存储装置推板1的下表面固定连接有放置底座2，放置底座2的数量为四个，四个放置底座2呈矩形分布在存储装置推板1的下表面，放置底座2的内表面固定连接有可升降移动机构3，可升降移动机构3包括电动推杆301，电动推杆301固定安装在放置底座2内表面的顶部，电动推杆301的伸缩端固定连接有滚轮架302，滚轮架302的底部通过转轴连接有移动滚轮303，该纳米石质文物防护剂的原料存储装置，放置底座2和可升降移动机构3的配合设置，在需要搬运原料时能够通过移动滚轮303来轻松方便的对存储装置进行转移搬运，达到了使原料移转更加轻松快速、便捷稳定的目的，在需要对原料进行静置存放时，能够将可升降移动机构3收入到放置底座2内，防止在放置过程中存储装置产生滑动，达到了原料防止保存更加稳定安全的目的，存储装置推板1的上表面固定连接有存储箱4，存储箱4的顶部设有取料口15，取料口15的外表面设有螺纹，取料口15外表面的螺纹与密封盖11内表面的螺纹相适配，存储箱4的正面设有原料观察窗5，纳米石质文物防护剂的原料存储装置，通过原料观察窗5的设置，可在不打开密封盖11的前提下对存储箱4内的原料剩余量进行观察，从而避免了频繁打开密封盖11导致原料与空气直接接触从而进入杂质，存储箱4的背面设有通风口6，通风口6内设有防尘机构7，防尘机构7包括防溢散隔离网701，防溢散隔离网701的一侧固定连接有水分吸收网702，水分吸收网702的另一侧固定连接有防尘过滤网703，水分吸收网702的材质为吸水棉，防尘过滤网703的为玻纤滤纸，存储箱4的侧壁内部设有溶液槽8，通过溶液槽8的设置可向其中添加高比热容液体如盐水等，从而保持存储箱4 内部处于恒温状态，达到了避免原料因温度变化发生变质，存储箱4的一侧的顶部固定连接溶液添加管9，存储箱4的另一侧的底部固定连接有溶液排出管10，溶液添加管9和溶液排出管10上均固定安装有控制阀门17，存储箱4 的侧面设有溶液观察窗14，存储箱4的顶部通过螺纹连接有密封盖11，密封盖11的内表面的顶部固定连接有密封垫圈16，密封垫圈16的材质为橡胶，存储箱4内表面的侧壁上固定连接有干燥剂放置盒12，干燥剂放置盒12的数量为两个，两个干燥剂放置盒12对称分布在存储箱4内表面的侧壁上，两个干燥剂放置盒12内设有干燥剂，存储装置推板1上表面的一侧固定连接有推拉杆13。[0024]使用时，将原料放进存储箱4内，将密封盖11通过取料口15外表面的螺纹盖上，此时取料口15的顶部被密封垫圈16覆盖形成密封，有效的防止有杂质进入到存储箱4内，干燥剂放置盒12内的干燥剂有效的保持存储箱4 的干燥环境，存储箱4可通过通风口6与外界空气进行流通，当外界空气进入存储箱4时需要通过防尘机构7，防尘机构7会将空气中的杂质和水分过滤掉，保证进入存储箱4内的只有纯净干燥的气体，通过溶液添加管9向溶液槽8中添加高比热容液体，使存储箱4内部的温度不易产生变化，当通过溶液观察窗14观测到液体浑浊或体积下降时，可打开溶液排出管10上的控制阀门17使溶液槽8内的旧溶液排出，当需要移动存储装置时，启动电动推杆 301使移动滚轮303伸出放置底座2与地面接触，工作人员可通过推动推拉杆 13轻松的对本存储装置进行搬运和移转。[0025]本实用新型的工作原理及有益效果：该纳米石质文物防护剂的原料存储装置，放置底座2和可升降移动机构3的配合设置，在需要搬运原料时能够通过移动滚轮303来轻松方便的对存储装置进行转移搬运，达到了使原料移转更加轻松快速、便捷稳定的目的，在需要对原料进行静置存放时，能够将可升降移动机构3收入到放置底座2内，防止在放置过程中存储装置产生滑动，达到了原料防止保存更加稳定安全的目的，该纳米石质文物防护剂的原料存储装置，通过原料观察窗5的设置，可在不打开密封盖11的前提下对存储箱4内的原料剩余量进行观察，从而避免了频繁打开密封盖11导致原料与空气直接接触从而进入杂质，通过溶液槽8的设置可向其中添加高比热容液体如盐水等，从而保持存储箱4内部处于恒温状态，达到了避免原料因温度变化发生变质。[0026]以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。